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高真空磁控与离子束溅射设备
领用单位 0601:物理与信息技术学院
仪器编号 20070273
仪器名称 高真空磁控与离子束溅射设备
规格型号 FJL520
生产厂家 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司
购置日期 2015-12-01
学科领域 1.物理学; 2.材料科学
技术指标 1、极限真空:6.6×10-5Pa;2、恢复真空时间:从1?105Pa抽至6.6×10-4≤40min。;3、系统漏率:停泵关机12小时后真空度≤5Pa;4、真空测量:采用一台ZDF数显复合真空计测量。
主要功能 可用于开发纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等。整个系统具有用离子束制备超薄膜到中厚膜和用磁控溅射制备中厚膜到厚膜的全部功能。
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